超纯水设备的技术原理
超纯水设备主要通过以下几种技术手段去除水中的杂质：反渗透（RO）技术
反渗透是超纯水制备过程中最常用的技术之一。通过高压使水通过半透膜，从而去除大部分的溶解性物质和有机物，达到去离子水的要求。
去离子（DI）技术
去离子设备通过离子交换树脂去除水中的阳离子和阴离子，是提高水质纯度的关键步骤。经过反渗透处理的水通常还需要通过去离子设备进一步处理，以去除水中的微量离子。
紫外线（UV）消毒技术
紫外线消毒技术可有效去除水中的细菌、病毒和微生物。在超纯水制备过程中，紫外线消毒可以确保水中不含微生物，避免对半导体制造过程的污染。
电阻率监控与控制系统
由于半导体生产过程对水质的要求非常严格，超纯水系统通常配备电导率或电阻率监控设备，实时监测水质。如果水中的杂质浓度过高，系统会自动调整处理方式，以确保水质始终达到要求。
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